尤其是氧气流量的稍许波动，就可能形成氧化反应不充分，而使膜层透过率和蚀刻性能变差或因氧气流量较大，而造成靶面“中毒”，使溅射效率下降，从而使膜层变薄、电阻升高。鉴于此材料商开发出了氧化靶，目前常用的氧化铟和氧化锡的混合物（I
2O3S
O2），即将高纯度的氧化铟和氧化锡超细粉末，按一定比例充分混合好，再采用粉末冶金工艺烧结成固体靶材，随着制作工艺的不断改进，ITO靶材密度逐步提高，现在已达到995以上，基本满足了ITO导电玻璃的需要。ITO导电玻璃的性能指标主要有：基板玻璃的外形尺寸、表面电阻（或方块电阻）、透光率、膜层厚度、蚀刻性能和可靠性等。二、ITO导电玻璃在液晶显示器中的应用根据LCD的驱动方式可分为TN（扭曲向列）型、STN（超扭曲向列）型、CSTN（彩色超扭曲向列）型及TFT（薄膜晶体管）型四种。它们所使用的ITO玻璃各不相同。本文重点介绍ITO在TFTLCD中的应用。TFTLCD的结构是，一面为TFT阵列玻璃，另一面为彩色滤光片。TFTLCD用的彩色滤光片与通常的彩色滤光片相似，但又有着以下三方面的不同：第一，基板玻璃材质不同，通常LCD用ITO导电玻璃的材质为钠钙玻璃，而TFTLCD用ITO导电玻璃均使用无碱低膨胀系数的硼硅玻璃，以保证其较高的温度稳定性第二，表面质量要求更高，由于在TFTLCD结构中，彩色滤光片对应的是价格较高的TFT阵列玻璃，彩色滤光片的缺陷必然会造成TFT阵列玻璃的报废，因此，对彩色滤光片每个单粒的表面质量要求很高，粒合格率几乎接近100第三，ITO镀膜工艺不同，因为TFTLCD的显示控制主要在于TFT阵列玻璃上，彩色滤光片上不需要图案电极。通常的做法是，在彩色滤光片的ITO膜层镀制时，采用掩膜镀的方式，即在彩色滤光片上镀制ITO膜层时用掩膜板遮挡，只在需要的区域镀上ITO膜，从而省略TFTLCD制作时的蚀刻工序。但此做法也存在一定的不利因素，如掩膜板的制造及其固定等问题。TFTLCD用ITO导电玻璃制作流程为。此外，TFT阵列玻璃基板上，除进行TFT制作外，仍然需要镀制ITO膜，并蚀刻成形，作为图形显示电极，下图为ITO在液晶面板中的应用。三、ITO导电玻璃在OLED显示器中的应用有机发光显示器（orga
iclightemitti
gdisplay，OLED），是一种在电流驱动下，通过载流子注入和复合，复合后形成激子，由激子辐射衰减而发光的显示器件。它具有自主发光、视角宽、轻薄、便于携带等特点。OLED显示器仍然需要ITO膜层作为透明的电极。其基本结构是：首先在玻璃基板上镀制ITO膜层，r