1为了研究真空和实际使用方便，根据各压强范围内不同的物理特点，把真空划分为粗真空，低真空，高真空，超高真空四个区域。
2在高真空真空条件下，分子的平均自由程可以与容器尺寸相比较。3列举三种气体传输泵旋转式机械真空泵，油扩散泵和复合分子泵。4真空计种类很多，通常按测量原理可分为绝对真空计和相对真空计。5气体的吸附现象可分为物理吸附和化学吸附。6化学气相反响沉积的反响器的设计类型可分为常压式，低压式，热壁
式和冷壁式。7电镀方法只适用于在导电的基片上沉积金属和合金，薄膜材料在电解液中是以
正离子的形式存在。制备有序单分子膜的方法是LB技术。8不加任何电场，直接通过化学反响而实现薄膜沉积的方法叫化学镀。9物理气相沉积过程的三个阶段：从材料源中发射出粒子，粒子运输到基片和粒子
在基片上凝聚、成核、长大、成膜。10溅射过程中所选择的工作区域是异常辉光放电，基板常处于负辉光区，阴极
和基板之间的距离至少应是克鲁克斯暗区宽度的34倍。11磁控溅射具有两大特点是可以在较低压强下得到较高的沉积率和可以在较低
基片温度下获得高质量薄膜。12在离子镀成膜过程中，同时存在吸附和脱附作用，只有当前者超
过后者时，才能发生薄膜的沉积。13薄膜的形成过程一般分为：凝结过程、核形成与生长过程、岛形成与
结合生长过程。14原子聚集理论中最小稳定核的结合能是以原子对结合能为最小单位不连续变化
的。15薄膜成核生长阶段的高聚集来源于：高的沉积温度、气相原子的高的动能、
气相入射的角度增加。这些结论假设凝聚系数为常数，基片具有原子级别的平滑度。16薄膜生长的三种模式有岛状、层状、层状岛状。17在薄膜中存在的四种典型的缺陷为：点缺陷、位错、晶界和层错。18列举四种薄膜组分分析的方法：X射线衍射法、电子衍射法、扫描电子显微镜分析法和俄歇电子能谱法。19红外吸收是由引起偶极矩变化的分子振动产生的，而拉曼散射那么是由引起极化率变化的分子振动产生的。由于作用的方式不同，对于具有对称中心的分子振动，红外吸收不敏感，拉曼散射敏感；相反，对于具有反对称中心的分子振动，红外吸收敏感而拉曼散射不敏感。对于对称性高的分子振动，拉曼散射敏感。20拉曼光谱和红外吸收光谱是测量薄膜样品中分子振动的振动谱，前者是散射光谱，而后者是吸收光谱。21表征溅射特性的主要参数有溅射阈值、溅射r