板上的铁钉在潮湿空气
2311分硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式果是。（填字母）。；H2还原SihCl3过程中若混02，可能引起的后
（2）下列有头硅材料的详法正确的是
A碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混B氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高D盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅3硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振
f荡。写出实验现象并给予解释
。
24（12分）科学家一直致力研究常温、常压下“人工围氮”的新方法。曾有实验报道：在常温、常压、学照条件下，N2在催化剂（掺有少量Fe2O3的TiO2）表面与水发生反应，生成的主要产物为NH3。进一步研究NH3生成量与温度的关系，部分实验数据见下表（光照、N2压力10×105Pa、反应时间3h）TKNH3生成量（106mol）相应的热化学方程式如下：N2g3H2O12NH3g回答下列问题：（1）请在答题卡的坐标图中画出上述反应在有催化剂与无催化剂两种情况下反应过程中体系能量变化示意图，并进行必要标注。（2）与目前广泛使用的工业合成氨方法相比，该方法中固氮反应速率慢。请提出可提高其反应速率且增大NH3生成量的建议：（3）工业合成氨的反应为N2g3H2g。2NH3g。设在容积为20L的密
32
3034．8
3135．9
3236．0
3532．0
O2g
ΔH7652kJmol1
闭容器中充入060molN2g和160molH2g反应在一定条件下达到平衡时，NH3的物质的量分数（NH2的物质的量与反应体系中总的物质的量之比）为①该条件下N2的平衡转化率；②该条件下反应2NH3g五、（本题包括1小题，9分）25（9分）某些高分子催化剂可用于有机合成。下面是一种高分子催化剂（Ⅶ）合成路线的一部分（Ⅲ和Ⅵ都是Ⅶ的单体；反应均在一定条件下进行；化合物ⅠⅢ和Ⅶ中含N杂环的性质类似于苯环）：N2g3H2g的平衡常数。
47
。计算
f回答下列问题：（1）写出由化合物Ⅰ合成化合物Ⅱ的反应方程式（2）下列关于化合物Ⅰ、Ⅱ和Ⅲ的说法中，正确的是A．化合物Ⅰ可以发生氧化反应B．化合物Ⅰ与金属钠反应不生成氢气．．．r