【讲义总结】521真空区域的划分：①粗真空1x101x10Pa。在粗真空下，气态空间近似为大气状态，21分子以热运动为主，分子间碰撞十分频繁；②低真空1x101x10。低真空时气体分子的流动逐渐从黏滞流状态向分子流状态过度，此时气体分子间碰撞次数与分子跟器壁间碰撞次16数差不多；③高真空1x101x10。当达到高真空时，气体分子的流动已经成为分子流状态，以气体分子与容器壁间的碰撞为主，且碰撞次数大大减小，蒸发材料的粒子沿直线飞行；6④超高真空＜1x10。达到超高真空时，气体分子数目更少，几乎不存在分子间碰撞，分子与器壁的碰撞机会更少。2获得真空的主要设备：旋片式机械真空泵，油扩散泵，复合分子泵，分子筛吸附泵，钛生化泵，溅射离子泵和低温泵等，其中前三种属于气体传输泵，后四种属于气体捕获泵，全为无油类真空泵。3输运式真空泵分为机械式气体输运泵和气流式气体输运泵。4极限压强：指使用标准容器做负载时，真空泵按规定的条件正常工作一段时间后，真空度不再变化而趋于稳定时的最低压强。5凡是利用机械运动来获得真空的泵称为机械泵，属于有油类真空泵。6旋片式真空泵泵体主要由锭子、转子、旋片、进气管和排气管等组成。7真空测量：指用特定的仪器和装置，对某一特定空间内的真空度进行测定。这种仪器或装置称为真空计。按测量原理分为绝对真空计和相对真空计。8物理气相沉积：是利用某种物理过程实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。特点：①需要使用固态或熔融态的物质作为沉积过程的源物质；②源物质通过物理过程转变为气相，且在气相中与衬底表面不发生化学反应；③需要相对较低的气体压力环境，这样其他气体分子对于气相分子的散射作用较小，气相分子的运动路径近似直线；④气相分子在衬底上的沉积几率接近100。在物理气相沉积技术中最基本的两种方法是蒸发法和溅射法。9蒸发沉积薄膜纯度取决于：①蒸发源物质的纯度；②加热装置、坩埚等可能造成的污染；③真空系统中的残留气体。10真空蒸发装置分类：电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置、空心阴极蒸发装置。11溅射镀膜原理：利用带有电荷的离子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向由欲溅射材料制成的靶材。在离子能量适合的情况下，入射离子在与靶材表面原子碰撞过程中将其溅射出来。这些被溅射出来的原子具有一定动能，并沿一定方向射向衬底，从而实现薄膜在衬底上的沉积。12蒸发法的特点：r