陷。涂胶气泡会导致串漏笔图胶条纹会导致线条不
f好预烘不足会出现酸刻侧蚀或漏笔预烘过量又曝光不足的话会出现酸刻白点或串笔前烘:目的是促使胶膜内溶剂充分挥发,使胶膜干燥以增加胶膜与表面的粘附性和胶膜的耐磨性。曝光时,掩摸板与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜和沾污掩摸板,同时,只有光刻胶干燥,在暴光时,才能充分进行光化学反应。影响前烘质量的主要因素是烘干温度和烘干时间,胶膜烘烤不足时,胶膜内的溶剂未充分挥发掉,暴光显影时,未受光的部分也被溶除形成浮胶或使图形变形,胶膜烘烤时间过长或温度过高时,会导致胶膜翘曲硬化,在显影时会显不出图形或图形留有底膜。曝光在涂胶的ITO玻璃上覆盖一片光模光模版上的图案是用不透光的材料做成用平行紫外光垂直照射有图案的部分不透光感光胶不被感光没有图案的部分被感光曝光不足时容易出现串笔曝光过量时易出现条纹变细曝光洁净度不足时易出现串或漏笔显影用低浓度的NAOH溶液把曝光的光刻胶除去显影时必须控制好时间和温度,温度和时间直接影响显影速度。若显影时间不足或温度低,则感光部的光刻胶不能完全溶解,留有一层光刻胶,在刻蚀时,这层胶会对ITO膜起保护作用,使应该刻蚀的ITO被保护下来,若显影时间过长或温度过高,显影时未被暴光的光刻胶会被从边缘向里钻溶,使图形边缘变差,再严重会使光刻胶大片剥落形成脱胶。显影后要坚膜使没有曝光的光刻胶牢固地粘附在ITO玻璃上增强其抗腐蚀能力显影不足会出现串笔显影过度会出现漏笔或线条细
f坚膜由于显影时光刻胶膜发生软化,膨胀,影响胶膜的抗蚀能力,因
此显影后必须用适当温度烘烤玻璃以除去水分,增强胶膜与玻璃的粘附性,这个过程叫坚膜。坚膜的方法有烘箱坚膜和红外光坚膜。酸刻利用喷淋的方式腐蚀掉曝光暴露的ITO层保留被光刻胶覆盖的ITO酸刻不足会出现串笔酸刻过量会出现线条细或漏笔脱膜利用喷淋和超声波的冲洗方式用5的NAOH清洗把覆盖ITO引线的光刻胶处掉显露出所需的ITO图形去膜液是用碱液配制而成的,它的碱浓度要高于显影浓度。2定向制作B线TOP前清洗洗掉玻璃上的污物灰尘如果清洗不干净将会出现TOP移印不上灰尘
将会影响TOP的绝缘作用TOP移印在光刻有图案的玻璃上按要求印上一层绝缘层其主要成分是SIO2目的
在于消除底影和起绝缘的作用防止上下串TOP预主固化TOP移印之后要固化固化分为预固化和主固化两个阶段PI前清洗洗掉玻璃上的污物灰r