2011年全球半导体设备制造商发展概况
上海科学技术情报研究所
董瑞青
关键字：全球半导体设备制造商发展概况
20130128浏览量：1601
半导体设备是半导体产业发展的基础，也是半导体产业价值链顶端的“皇冠”。从全球范围看，美国、日本、荷兰等国家是世界半导体装备制造的三大强国，全球知名的半导体设备制造商主要集中在上述国家。如表1所示，2011年世界前十六大半导体设备生产商中，有美国企业7家，日本企业6家，荷兰企业2家，德国企业1家，其中荷兰阿斯麦（ASML）以788亿美元的销售额位居全球第一，美国应用材料公司以744亿美元的销售额位居第二，日本东京电子销售额为620亿美元，位列第三；从企业主要的半导体设备产品看，美国主要控制等离子刻蚀设备、离子注入机、薄膜沉积设备、掩膜板制造设备、检测设备、测试设备、表面处理设备等，日本则主要控制光刻机、刻蚀设备、单晶圆沉积设备、晶圆清洗设备、涂胶机显影机、退火设备、检测设备、测试设备、氧化设备等，而荷兰则在高端光刻机、外延反应器、垂直扩散炉等领域处于领导地位。从国内看，近年来，在国家科技重大专项支持下，我国集成电路装备产业发展取得了显著进展。上海中微半导体的90
m65
m等离子体介质刻蚀机、45
m32
m等离子体介质刻蚀机及北方微电子装备的65
m硅栅刻蚀机已通过12英寸片生产线的考核验证，并实现销售。上海微电子装备的先进封装光刻机进入江苏长电科技集团的集成电路封装生产线正式使用。七星华创的12英寸氧化炉也进入大线试用。中科信12英寸大角度离子注入机已完成3台样机组装，正在进行测试验证。盛美半导体的12英寸单晶圆兆声波清洗机已进入韩国海力士12英寸晶圆生产线的使用，并取得了韩国海力士本部的书面认证。
排名国别
1
荷兰
2
美国
表12011年世界主要半导体设备生产商
公司名称
主要半导体设备产品
半导体设备销售额（亿美元）
阿斯麦（ASML）
高端光刻机（如沉浸式光刻机、极紫外线光刻机（EUV））。
788
原子层沉积（ALD）设备，化学气相沉积
（CVD）设备，电化学沉积（ECD）设备，
应用材料公司（AppliedMaterials）
物理气相沉积（PVD设备），刻蚀机，快速热处理设备，离子注入机，化学机械抛光（CMP），表面处理（SP）设备，
744
计量和晶圆检测设备，掩膜板制造设备
等。
f3
日本
东京电子（TokyoElectro
）
热处理成膜设备，等离子刻蚀机，单晶圆沉积设备，表面处理（主要指清洗）设备，晶圆测试设备，涂胶机显影机。
620
4
美国
科磊r