不锈钢化学抛光液
凯盟化工不锈钢化学抛光液最先起源于1965美国IBM公司，简称为CMP中文名字叫做“化学机械抛光”最初用在军方望远镜的镜片抛光，因为操作方便，成本低廉，并渐渐取代了原有的手工抛光工艺。到1988年，IBM公司把CMP技术转让给Mrico公司，之后Mrico与Motorola公司联合，并与第二年成功的将化学机械抛光技术应用与64MbDRAM的生产中，随后CMP技术在全世界的范围内广泛应用。不锈钢化学抛光液的原理：电化学抛光结合传统CMP机制与电解抛光技术，传统的电化学铜沉积，同时抛光垫的机械摩擦和抛光作用可去除顶部多余的铜沉积层，从而通过选择沉积于机械去除双重作用，减小多余的厚度，达到平坦化的目的。近年来CMP的研发发展到全球亚洲的各个地方如：日本，韩国，台湾等国。中国国内的CMP研发已经日益成熟。如东莞的凯盟公司的酸洗钝化抛光产品就获得了4项国家专利。研发团队强大和顶级学府华中科技大学、中南民族大学有密切的合作。
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