反渗透水处理工艺流程及注意事项简析
反渗透工艺在纯水、超纯水制备系统工程中的应用不但能提高了产水品质降低生产成本而且防止环境污染有力地推进了电子工业的进步同时也促进了纯水、超纯水制造技术的发展
反渗透在电子行业的应用
电子元器件的制造需要大量高品质的纯水、超纯水电子级超纯水是目前世界上纯净品质要求最高的水电子工业用的超纯水，例如广泛用于生产计算机硬盘，集成电路芯片，半导体，显像管，液晶显示器，线路板等用的纯水，对水的纯度要求较高，对出水电阻率的要求达到上MΩcm级。
随着电子工业的发展对高纯水提出了越来越高的要求。例如，制作16K位DRAM允许水中TOC总有机碳为500ppb、金属离子为1ppb、≥02μm的颗粒为100个毫升而制作16M位DRAM时，则要求TOC5ppb、金属离子02ppb、水中≥01μm颗粒数为06个升。
可以说在电子级超纯水设备中汇集了当前水处理技术最先进的工艺和设备如超滤、微滤、反渗透、膜脱气、电去离子EDI等其中反渗透装置是整个纯水、超纯水制备系统工程中一关键的设备它能有效地去除原水中97以上的溶解性无机物质、99以上的相对分子质量大于300的有机物、99以上的包括细菌在内的各种微粒和95以上的二氯化硅
反渗透工艺在纯水、超纯水制备系统工程中的应用不但能提高了产水品质降低生产成本而且防止环境污染有力地推进了电子工业的进步同时也促进了纯水、超纯水制造技术的发展
在我国RO应用于电子工业水处理的报道，最早可追溯到1981年，RO技术就己成功应用于大规模集成电路超纯水制备。此后，不断出现RO制取超纯水工艺流程研究和更大规模超纯水制备的报
f道。2004年4月，国家海洋局杭州水处理技术开发中心为乐金飞利浦曙光电子有限公司设计和建成的13Om3hRO彩色显象管废水回收项目是RO纯水制备技术在电子工业领域应用的拓展。该项目是迄今我国第一个较大规模进行彩色显象管生产企业废水回用项目。
混凝剂主要用于除去水中微小粒径的悬浮物胶体。因为这些微小的颗粒在水中难以沉淀，而且难以去除。它是通过在原水中投加混凝剂，使之与水中悬浮物及胶体生成较大絮片，然后通过多介质过滤器过滤去除。当原水中铁的含量和悬浮物的含量较小时，预处理可以不采用此装置。当水中悬浮物及胶体物质的含量比较高时，一般需要使用混凝剂添加装置。
单级反渗透设备工艺流程与使用注意事项
单级反渗透设备在运作时的工艺流程具体如下：原水罐→添加混凝剂→原水泵→多介质过滤器→去除游离氯r