的正常运行造成很大的威胁。
表1反渗透装置的清洗频次日期4月13日4月29日5月16日5月30日6月13日6月30日7月14日7月26日8月10日8月24日清洗药剂
氢氧化钠柠檬酸柠檬酸氢氧化钠柠檬酸氢氧化钠柠檬酸柠檬酸柠檬酸柠檬酸
清洗前产水流量
81mh85mh83mh82mh80mh85mh75mh85mh80mh85mh
3333333333
清洗前压力
135MPa14MPa141MPa14MPa138MPa14MPa135MPa139MPa14MPa137MPa
清洗后产水流量
130mh130mh126mh125mh126mh130mh120mh128mh125mh130mh
3333333333
清洗后压力
095MPa101MPa105MPa096MPa101MPa095MPa101MPa100MPa101MPa105MPa
备注
3反渗透膜的清洗31当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：1）在正常给水压力下，产水量较正常值下降10～15；2）为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10～15；3）产水水质降低10～15，透盐率增加10～15；4）给水压力增加10～15；5）系统各段之间压差明显增加。32污染情况分析1）碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶
f体损伤膜元件是极为必要的。早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至35，运行12小时的方法去除。对于沉积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。2）硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的。硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它们几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。3）金属氧化物氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器罐槽的腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处理过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。4）聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的是，这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的。硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，r