总结1Vacumm
（1）IGIo
izatio
gauge电离规）TCThermolcouplegauge热偶规）（2）真空系统VacuumPumps（真空泵）VacuumGauges（真空规）Valves（阀门）VacuumChambers（真空腔体）Feedthroughs（输入输出）
真空图（真空图（略）
（3）热导真空规包含：热偶真空规（）热导真空规包含规。（4）四极质谱仪可动态监测薄膜沉积过程中各种气体的价态比例，也可用于高真空减漏）Pa之间）、皮拉尼真空
5真空泵分类5真空泵分类1输运式和捕获式2工作气压范围3干与湿4正规与腐蚀
f（6）真空泵）
（1）Tra
sferpumps气体输送泵
Mecha
icalVacuumPumps（机械泵）OilVaporDiffusio
Pumps（油扩散泵）TurbomolecularPumps（涡轮分子泵）
（2）Trappi
gpumps气体捕集泵
Cryosorptio
pumps（低温吸附泵）Sputterio
pumps（溅射离子泵）Cryoge
icVacuumPumps（低温冷凝泵）Tita
iumSublimatio
Pumps（钛升华泵）
2PVD：
Pvd；threestepsSy
thesis合成）Tra
sport（转移，输运）Co
de
satio
（凝结）
f★溅射：溅射法制薄膜可以根据特点分为以下几种：溅射：
直流溅射DCSputterDepositio
二极溅射）（三级溅射）射频溅射RFRadioFreque
cySputterDepositio
磁控溅射Mag
etro
Sputteri
gDepositio
反应溅射ReactiveSputterDepositio
离子束溅射Io
BeamSputterDepositio
Io
Depositio

★各种溅射中存在的的问题各种溅射中存在的的问题
●直流（二极）溅射（三极溅射，四极溅射）（基片温度，工作气压，沉积速率）交流溅射：⑴采用正弦波电源（中频溅射法）①抑制靶面大火极消失②克服了阳
f⑵采用矩形脉冲波电源（脉冲溅射发）●射频溅射（优点：绝缘靶，低气压，低速）1356MHZ★射频方法可以被用来产生溅射效应的一个原因是它可以在靶材上产生（可能名词解释）自偏压效应：即在射频电场其作用的同时，靶材会自动的处于一个负电位下，这导致气体离子对其产生自发的轰击和溅射。★如何自发溅射的？如何自发溅射的？它的正半周内作为正电极接受的电子电量将比在负半周期内作为负电极接受的离子电量多得多。射频溅射三个基本特点1．2．3．解决了二级溅射中的电极表面电荷积累自偏压作用下产生溅射通过控制电极表面来控制溅射作用，最终实现溅射薄膜的沉积。★加大非溅射极的极面积可以降低该极的自偏压鞘层电压。具体方法将样品台和真空室器壁与地面并联在一起。
●磁控溅射（高速：沉积速度快，低温：衬底温度低、工作气体压
力较低）
●反应溅射（靶中毒：靶材上形成化合物）优点反溅射具有原位清洗的作用（制备无机化合物薄膜）
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